Divisão de fabricação de chips da empresa, a Samsung Foundry reforçou nesta terça-feira (11) as mudanças recentes do seu cronograma de última geração e trouxe mais alguns detalhes para o futuro. Como mencionou em julho, a gigante sul-coreana decidiu priorizar o refinamento da atual linha da classe de 2 nm pelos próximos 3 anos, e adiou saltos maiores para o fim da década, confirmando como grande novidade a adoção da tecnologia High-NA EUV para componentes de 1 nm.
Discutida durante a Next-Generation Lithography + Patterning Conference (NGL) 2026, a nova estratégia visa garantir estabilidade, rendimento de produção e volume para a família SF2. Essa linha de 2 nm inclui variantes como SF2P, SF2X, SF2A e o SF2Z (equipado com backside power delivery, tecnologia que otimiza o fornecimento de energia no chip).
Com isso, a litografia SF1.4 da classe de 1,4 nm foi adiada de 2027 para 2029, conforme a empresa havia revelado no mês passado. A ideia seria obter maior estabilidade, pensando principalmente em contratos de longo prazo recém-adquiridos pela companhia. Clique aqui para ler mais
)
