A China iniciou a produção em escala de máquinas nacionais de litografia DUV por imersão, tecnologia essencial para fabricar semicondutores. O avanço reforça a estratégia de Pequim para diminuir a dependência de fornecedores estrangeiros.
O projeto é liderado por uma empresa estatal de Xangai e marca uma nova etapa na busca chinesa por autonomia tecnológica, embora ainda esteja distante dos equipamentos mais avançados da ASML.
Empresa chinesa assume produção de nova tecnologia
Segundo a Reuters, a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group está à frente da fabricação dos equipamentos após incorporar equipes de startups chinesas especializadas em litografia.
Criada em agosto de 2023, a companhia possui capital registrado de 7 bilhões de yuans (aproximadamente R$ 5,11 bilhões). Seus acionistas são duas empresas estatais ligadas a Xangai.
A tecnologia DUV (ultravioleta profundo) é usada para desenhar circuitos em wafers de silício, uma das etapas mais importantes da fabricação de chips. Nos equipamentos de imersão, uma camada de água entre a lente e o wafer permite criar padrões menores e mais precisos.
Entre as aplicações desses sistemas estão:
Fabricação de diferentes tipos de chips;
Produção de semicondutores mais avançados usando múltiplas exposições;
Criação de uma alternativa para fabricantes chineses;
Redução dos impactos de possíveis restrições comerciais.
